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Micropó de carboneto de silício verde para polimento

1. O que é o micropó de carboneto de silício verde?

O carboneto de silício verde é um abrasivo sintético produzido num forno de resistência elétrica a partir de uma mistura de elevada pureza de areia de sílica e coque de petróleo, com sal como catalisador. A variedade “verde” é de maior pureza e possui cristais ligeiramente mais afiados e duros do que a sua congénere de carboneto de silício preto.

“Micropó” refere-se à forma finamente triturada e precisamente graduada deste abrasivo, normalmente com tamanhos de partículas medidos em mícrons (µm). Estes pós são suspensos em líquidos (água ou óleo) para criar pastas de polimento.

2. Principais propriedades e porque é excelente para polimento

  • Dureza Extrema : Com uma dureza de Mohs de  9,2-9,3 , é um dos materiais mais duros disponíveis. Isto permite cortar materiais duros com eficácia.

  • Cristais Afiados e Quebradiços : Os grãos quebram facilmente sob pressão, criando novas arestas afiadas. Esta  propriedade de autoafiação  garante um corte consistente e evita o embotamento.

  • Elevada condutividade térmica : ajuda a dissipar o calor gerado durante o processo de polimento, reduzindo o risco de danos térmicos na peça de trabalho.

  • Inércia química : é resistente aos ácidos e aos álcalis, o que significa que não reage nem contamina a pasta de polimento ou a peça de trabalho.

composição químicapropriedades físicas
SiC ≥99%Densidade≥3,18g/ cm3
FC ≤0,20% dureza de Mohs  9,5
Fe2O3≤0,40% ponto de fundição 2250℃
SiO 2 ≤0,05%Magnético≤0,017%

3. Principais aplicações em polimento

O micropó de SiC verde é ideal para polir materiais duros e não metálicos onde a contaminação da superfície (como o ferro) é uma preocupação. As principais aplicações incluem:

  • Substratos cerâmicos : como referiu, são amplamente utilizados para polir  substratos de alumina (Al₂O₃)  e  nitreto de alumínio (AlN)  utilizados em eletrónica (LEDs, módulos de energia).

  • Cerâmica técnica : componentes de polimento feitos de carboneto de silício (SiC), zircónia (ZrO₂) e outras cerâmicas avançadas para uso industrial e médico.

  • Vidro e Óptica : Moagem fina e pré-polimento de vidro óptico, lentes e vidro CRT.

  • Wafers semicondutores : embora não sejam para a fase final do CMP, são utilizados para a retificação inversa e modelação inicial de wafers de silício.

  • Metais duros e ligas : polimento de ferramentas de carboneto, ligas de titânio e outros metais difíceis de retificar.

  • Pedras e jóias : polimento de pedras preciosas duras como a ágata, o jade e o mármore.

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